واحد نم‌زدایی TEG با ظرفیت 7MMSCFD برای تصفیه گاز طبیعی و حذف آب

شرح مختصر:

جزئیات محصول

الزامات فنی ۱.

فرآیند TEG (تجهیزات آبگیری تری اتیلن گلیکول) باید با استانداردها و مشخصات ملی مربوطه مطابقت داشته باشد؛

فشار طراحی تجهیزات: ۱۳۲۰ پوند بر اینچ مربع؛

نصب شده روی ترمزطرح تصفیه گازجریان فرآیند لغزش تجهیزات روان است، چیدمان تجهیزات منطقی است و فضای کافی برای عملیات تولید و نگهداری وجود دارد.

۳۳۰ روز در سال قابل بهره‌برداری و مابقی برای تعمیر و نگهداری؛

جنس سینی برج باید از جنس SS 316 یا هر ماده مناسب برای خوردگی باشد.

سطح طراحی شماره ۶۰۰،

دمای طراحی دستگاه: ۲۰۰ درجه فارنهایت.

در صورت امکان خوردگی، CO2 بالا را در نظر بگیرید.

جداکننده‌های آمین و سایر تجهیزات حساس به خوردگی باید از داخل پوشش داده شوند.

تجهیزات دوار باید از یک سازنده معتبر تهیه شوند.

۲. شرح فناوری فرآیند

گاز طبیعی اشباع و مرطوب از میان ... عبور می‌کند.جداکننده فیلتربرای جدا کردن قطرات ۵ میکرومتر و بالاتر، و سپس وارد جداکننده گاز-مایع دستگاه آب‌زدایی می‌شود تا مایع آزاد جدا شود. گاز جدا شده از طریق لوله بالارونده گاز برج جذب وارد بخش جذب می‌شود. تری اتیلن گلیکول احیا شده در بالای برج جذب اسپری می‌شود و از پایین به بالا با گاز طبیعی کاملاً در تماس قرار می‌گیرد تا انتقال جرم و تبادل انجام شود و رطوبت آن حذف شود. گاز طبیعی که رطوبت آن حذف شده است، از جمع‌کننده مه بالای برج خارج می‌شود تا قطرات گلیکول بزرگتر از ۵ میکرومتر حذف شوند و سپس از برج خارج می‌شود.

پس از خروج از برج، وارد یک مبدل حرارتی پوسته‌ای می‌شود و قبل از ورود به برج، با گلیکول رقیق داغ تبادل گرما می‌کند تا دمای تری اتیلن گلیکول کاهش یابد. گاز طبیعی پس از تبادل گرما، وارد جداکننده فیلتر می‌شود تا گلیکول حمل شده را جدا کند و سپس وارد خط لوله خارجی می‌شود. تری اتیلن گلیکول غنی که رطوبت موجود در گاز طبیعی را جذب کرده است، از برج جذب خارج شده و وارد شیر تنظیم سطح مایع می‌شود و پس از کاهش فشار، وارد کویل خنک‌کننده رفلاکس در بالای ستون اصلاح مایع غنی شده و با بخار داغ تولید شده در ریبویلر تبادل گرما می‌کند تا رفلاکس بالای ستون را فراهم کند. پس از تأمین ظرفیت خنک‌کننده رفلاکس بالای ستون، تا حدود 50 درجه سانتیگراد گرم می‌شود و سپس از کویل به مخزن فلش تری اتیلن گلیکول می‌رود. گلیکول غنی در مخزن فلش تا 0.4 تا 0.6 مگاپاسکال کاهش فشار می‌یابد و گاز هیدروکربن و سایر گازهای محلول در تری اتیلن گلیکول به بیرون رانده می‌شوند و این بخش از گاز به عنوان گاز سوخت برای احتراق ریبویلر استفاده می‌شود.

تری اتیلن گلیکول مایع غنی فلش شده برای فیلتر کردن ناخالصی‌های مکانیکی وارد فیلتر مکانیکی می‌شود و سپس برای جذب بیشتر مواد هیدروکربنی محلول در تری اتیلن گلیکول و مواد تخریب شده تری اتیلن گلیکول وارد فیلتر کربن فعال می‌شود. سپس وارد مبدل حرارتی مایع غنی از چربی صفحه‌ای می‌شود، با تری اتیلن گلیکول رقیق با دمای بالا از مخزن بافر تبادل حرارت در قسمت پایین ریبویلر تری اتیلن گلیکول تبادل گرما می‌کند و تا حدود ۱۵۰ درجه سانتیگراد گرم می‌شود تا وارد ستون اصلاح مایع غنی از چربی شود.

در ریبویلر تری اتیلن گلیکول در قسمت پایینی ستون تقطیر، تری اتیلن گلیکول تا دمای ۱۹۳ درجه سانتیگراد گرم می‌شود و آب موجود در تری اتیلن گلیکول تجزیه شده و از بالای ستون تقطیر از طریق اثر تقطیر ستون تقطیر تخلیه می‌شود. گلیکول رقیق با غلظت حدود ۹۹٪ (وزنی) از ستون جداکننده مایع رقیق در ریبویلر به مخزن بافر تبادل حرارت تری اتیلن گلیکول پایینی سرریز می‌شود. تحت تأثیر گاز خشک در ستون جداکننده مایع رقیق، غلظت گلیکول رقیق ورودی به مخزن بافر تبادل حرارت می‌تواند به ۹۹.۵٪ تا ۹۹.۸٪ برسد.

در مخزن بافر گلیکول، گلیکول رقیق با دمای حدود ۱۹۳ درجه سانتیگراد وارد مبدل حرارتی گلیکول غنی از رقیق می‌شود تا با گلیکول غنی تبادل گرما کند و دما تا حدود ۱۰۰ درجه سانتیگراد کاهش یافته و وارد پمپ می‌شود. تری اتیلن گلیکول مایع رقیق به مبدل حرارتی گاز-مایع در خارج از برج جذب پمپ می‌شود و پس از خنک شدن با مبدل حرارتی گاز خارج از برج، از قسمت بالای محفظه وارد بالای برج جذب می‌شود تا گردش حلال تکمیل شود.

گاز خشکی که از قسمت لوله گاز خشک در خروجی برج جذب کشیده می‌شود، گاز جداکننده ستون یکسوسازی است.