Liekamųjų dujų valymo platforma

Aprašymas

Gamtinių dujų atliekų apdorojimo platforma daugiausia naudojama sieros regeneravimo įrenginio atliekų dujoms, taip pat skystos sieros telkinio išmetamosioms dujoms ir sieros regeneravimo įrenginio dehidratacijos įrenginio TEG išmetamosioms dujoms apdoroti.
Slydimo konstrukcija ir apdorojimo pajėgumai atitinka sieros regeneravimo įrenginį ir dehidratacijos įrenginį.

Gamtinių dujų liekanų dujų valymo įrenginius galima suskirstyti į keturias kategorijas.

1. Redukcijos ir absorbcijos procesas
Redukcijos ir absorbcijos proceso principas yra toks: liekamosios dujos yra hidrinamos, sieros turintys komponentai liekamosiose dujose redukuojami iki H2S, susidaręs H2S selektyviai absorbuojamas amino metodu, o galiausiai regeneruotos dujos išskiriamos ir patenka į Klauso įrenginį cirkuliacinei reakcijai. Hidrinimo procesas reikalauja didelių investicijų ir didelių eksploatavimo sąnaudų, tačiau jis plačiai naudojamas šalyse ir regionuose, kuriuose keliami aukšti aplinkos apsaugos reikalavimai, nes galima pasiekti gana didelį sieros kiekį, pavyzdžiui, daugiau nei 99,8 %.

2. Oksidacijos absorbcijos procesas
Oksidacijos absorbcijos metodas – tai metodas, kai pirmiausia oksiduojamas liekamųjų dujų sulfidas iki SO2, tada absorbuojamas SO2 tirpalu (arba tirpikliu) ir galiausiai atgaunamas sulfato, sulfido ir SO2 pavidalu.
Šiam tipui priklauso daug metodų, kurių dauguma naudojami dūmų dujų desulfuravimui arba lydyklų ir sieros rūgšties gamyklų liekamųjų dujų valymui, o Wellmano Lordo metodas naudojamas Klauso liekamųjų dujų valymui.

3. Žemos temperatūros Klauso procesas
Žemos temperatūros Klauso technologijai būdinga Klauso reakcija, vykstanti žemesnėje nei sieros rasos taško temperatūroje, todėl ji dar vadinama sieros išgavimo procesu, kai ji vyksta žemiau rasos taško. Klauso reakcija yra stiprus egzoterminis reakcijos procesas. Todėl žema temperatūra skatina pusiausvyros poslinkį sieros susidarymo kryptimi, o tai gali pagerinti sieros išgavimą. Pagal Klauso reakcijos ir įrenginio ryšį, žemos temperatūros Klauso procesą galima suskirstyti į nepriklausomą žemos temperatūros Klauso procesą ir kombinuotą žemos temperatūros Klauso procesą.

4. Tiesioginio oksidavimo skystojoje fazėje procesas
Skystosios fazės tiesioginio oksidavimo procesas yra tam tikra technologija, kurios metu H2S tiesiogiai oksiduojamas į elementinę sierą. Šio proceso principas yra absorbuoti H2S iš liekamųjų dujų desulfuravimo tirpalu, o po to jį oksiduoti, kad susidarytų elementinė siera.

Techniniai parametrai

1. SO2 ≤ 400 mg/Nm3 (sausa medžiaga, 3 tūrio % O2)
2, metinis gamybos laikas 8000 valandų
3, Veikimo lankstumas 50% ~ 120%