වලිග ගෑස් පිරිපහදු ලිස්සා යාම

විස්තර

ස්වාභාවික වායු වලිග වායු පිරිපහදු ස්කීඩ් ප්‍රධාන වශයෙන් සල්ෆර් ප්‍රතිසාධන උපාංගයේ වලිග වායුව මෙන්ම ද්‍රව සල්ෆර් තටාකයේ අපද්‍රව්‍ය වායුව සහ සල්ෆර් ප්‍රතිසාධන උපාංගයේ විජලනය උපාංගයේ TEG අපද්‍රව්‍ය වායුව සමඟ කටයුතු කිරීමට යොදා ගනී.
ස්කීඩ් එකේ සැලසුම සහ සැකසුම් ධාරිතාව සල්ෆර් ප්‍රතිසාධන උපාංගය සහ විජලනය කිරීමේ උපාංගය සමඟ ගැලපේ.
ස්වාභාවික වායු වලිග වායු පිරිපහදු ස්කීඩ් කාණ්ඩ හතරකට බෙදිය හැකිය.

1. අඩු කිරීමේ සහ අවශෝෂණ ක්‍රියාවලිය
අඩු කිරීමේ සහ අවශෝෂණ ක්‍රියාවලියේ මූලධර්මය නම්, වලිග වායුව හයිඩ්‍රජනීකෘත කර, වලිග වායුවේ සල්ෆර් අඩංගු සංරචක H2S දක්වා අඩු කර, ජනනය කරන ලද H2S ඇමයින් ක්‍රමය මගින් තෝරා බේරා අවශෝෂණය කර, අවසානයේ පුනර්ජනනය හෝ වායුව සංසරණ ප්‍රතික්‍රියාව සඳහා ක්ලවුස් ඒකකයට ඇතුළු වීමට නිස්සාරණය කිරීමයි. හයිඩ්‍රජන්කරණ ක්‍රියාවලියට ඉහළ ආයෝජනයක් සහ ඉහළ මෙහෙයුම් පිරිවැයක් ඇත, නමුත් එය 99.8% ට වඩා තරමක් ඉහළ සල්ෆර් අස්වැන්නක් ලබා ගත හැකි බැවින් ඉහළ පාරිසරික ආරක්ෂණ අවශ්‍යතා ඇති රටවල සහ කලාපවල බහුලව භාවිතා වේ.

2 ඔක්සිකරණ අවශෝෂණ ක්‍රියාවලිය
ඔක්සිකරණ අවශෝෂණ ක්‍රමය යනු පළමුව වලිග වායුවේ ඇති සල්ෆයිඩ් SO2 බවට ඔක්සිකරණය කර, පසුව ද්‍රාවණයක් (හෝ ද්‍රාවකයක්) සමඟ SO2 අවශෝෂණය කර, අවසානයේ එය සල්ෆේට්, සල්ෆයිඩ් සහ SO2 ආකාරයෙන් ප්‍රතිසාධනය කරන ක්‍රමයකි.
මෙම වර්ගයට අයත් බොහෝ ක්‍රම තිබේ, ඒවායින් බොහොමයක් දුම් වායුව සල්ෆරීකරණය කිරීම හෝ උණු කරන්නන් සහ සල්ෆියුරික් අම්ල කම්හල් වලින් වලිග වායුව ප්‍රතිකාර කිරීම සඳහා භාවිතා කරන අතර, ක්ලවුස් වලිග වායු ප්‍රතිකාරය සඳහා වෙල්මන් ලෝඩ් ක්‍රමය භාවිතා කරයි.

3. අඩු උෂ්ණත්ව ක්ලවුස් ක්‍රියාවලිය
අඩු උෂ්ණත්ව ක්ලවුස් තාක්ෂණය සල්ෆර් පිනි ලක්ෂ්‍යයට පහළින් ක්ලවුස් ප්‍රතික්‍රියාව මගින් සංලක්ෂිත වේ, එබැවින් එය උප පිනි ලක්ෂ්‍ය සල්ෆර් ප්‍රතිසාධන ක්‍රියාවලිය ලෙසද හැඳින්වේ. ක්ලවුස් ප්‍රතික්‍රියාව යනු ශක්තිමත් තාපජ ප්‍රතික්‍රියා ක්‍රියාවලියකි. එබැවින්, අඩු උෂ්ණත්වය සල්ෆර් උත්පාදනයේ දිශාවට සමතුලිතතාවය මාරු කිරීමට හිතකර වන අතර එමඟින් සල්ෆර් ප්‍රතිසාධනය වැඩි දියුණු කළ හැකිය. ක්ලවුස් ප්‍රතික්‍රියාව සහ ඒකකය අතර සම්බන්ධතාවයට අනුව, අඩු උෂ්ණත්ව ක්ලවුස් ක්‍රියාවලිය ස්වාධීන අඩු උෂ්ණත්ව ක්ලවුස් ක්‍රියාවලිය සහ ඒකාබද්ධ අඩු උෂ්ණත්ව ක්ලවුස් ක්‍රියාවලිය ලෙස බෙදිය හැකිය.

4. ද්‍රව අදියර සෘජු ඔක්සිකරණ ක්‍රියාවලිය
ද්‍රව අදියර සෘජු ඔක්සිකරණ ක්‍රියාවලිය යනු H2S මූලද්‍රව්‍ය සල්ෆර් බවට සෘජුවම ඔක්සිකරණය කරන ක්‍රියාවලි තාක්‍ෂණයකි. මෙම ක්‍රියාවලියේ මූලධර්මය වන්නේ වල්ග වායුවේ ඇති H2S සල්ෆරීකරණය කළ ද්‍රාවණය සමඟ අවශෝෂණය කර, පසුව මූලද්‍රව්‍ය සල්ෆර් ජනනය කිරීම සඳහා ඔක්සිකරණය කිරීමයි.

තාක්ෂණික පරාමිතීන්

1 SO2 ≤ 400mg/Nm3 (වියළි පදනම, 3vol% O2)
2 වාර්ෂික නිෂ්පාදන කාලය පැය 8000 යි
3 මෙහෙයුම් නම්‍යශීලීභාවය 50%~120%