టెయిల్ గ్యాస్ ట్రీట్‌మెంట్ స్కిడ్ – రోంగ్‌టెంగ్

వివరణ

సహజ వాయువు టెయిల్ గ్యాస్ ట్రీట్‌మెంట్ స్కిడ్ ప్రధానంగా సల్ఫర్ రికవరీ పరికరం యొక్క టెయిల్ గ్యాస్‌ను, అలాగే ద్రవ సల్ఫర్ పూల్ యొక్క వ్యర్థ వాయువును మరియు సల్ఫర్ రికవరీ పరికరం యొక్క డీహైడ్రేషన్ పరికరం యొక్క TEG వ్యర్థ వాయువును ఎదుర్కోవడానికి ఉపయోగించబడుతుంది.
స్కిడ్ యొక్క డిజైన్ మరియు ప్రాసెసింగ్ సామర్థ్యం సల్ఫర్ రికవరీ పరికరం మరియు డీహైడ్రేషన్ పరికరంతో సరిపోలుతాయి.
సహజ వాయువు తోక వాయువు చికిత్స స్కిడ్‌ను నాలుగు వర్గాలుగా విభజించవచ్చు

1. తగ్గింపు మరియు శోషణ ప్రక్రియ
తగ్గింపు మరియు శోషణ ప్రక్రియ యొక్క సూత్రం ఏమిటంటే, తోక వాయువు హైడ్రోజనేటెడ్ చేయబడి, తోక వాయువులోని సల్ఫర్ కలిగిన భాగాలను H2Sకి తగ్గించి, ఉత్పత్తి చేయబడిన H2Sని అమైన్ పద్ధతి ద్వారా ఎంపిక చేసి గ్రహించి, చివరకు పునరుత్పత్తి లేదా వాయువును సంగ్రహించి, ప్రసరణ ప్రతిచర్య కోసం క్లాజ్ యూనిట్‌లోకి ప్రవేశపెడతారు. హైడ్రోజనేషన్ ప్రక్రియకు అధిక పెట్టుబడి మరియు అధిక ఆపరేషన్ ఖర్చు ఉంటుంది, అయితే ఇది అధిక పర్యావరణ పరిరక్షణ అవసరాలు ఉన్న దేశాలు మరియు ప్రాంతాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది ఎందుకంటే ఇది 99.8% కంటే ఎక్కువ సల్ఫర్ దిగుబడిని సాధించగలదు.

2 ఆక్సీకరణ శోషణ ప్రక్రియ
ఆక్సీకరణ శోషణ పద్ధతి అనేది మొదట తోక వాయువులోని సల్ఫైడ్‌ను SO2 కు ఆక్సీకరణం చేసి, తరువాత SO2 ను ద్రావణం (లేదా ద్రావకం) తో గ్రహిస్తుంది మరియు చివరకు దానిని సల్ఫేట్, సల్ఫైడ్ మరియు SO2 రూపంలో తిరిగి పొందుతుంది.
ఈ రకానికి చెందిన అనేక పద్ధతులు ఉన్నాయి, వీటిలో ఎక్కువ భాగం ఫ్లూ గ్యాస్ డీసల్ఫరైజేషన్ లేదా స్మెల్టర్లు మరియు సల్ఫ్యూరిక్ యాసిడ్ ప్లాంట్ల నుండి టెయిల్ గ్యాస్ చికిత్స కోసం ఉపయోగించబడతాయి మరియు వెల్మాన్ లార్డ్ పద్ధతిని క్లాజ్ టెయిల్ గ్యాస్ చికిత్స కోసం ఉపయోగిస్తారు.

3. తక్కువ ఉష్ణోగ్రత క్లాజ్ ప్రక్రియ
తక్కువ ఉష్ణోగ్రత క్లాజ్ టెక్నాలజీ సల్ఫర్ డ్యూ పాయింట్ క్రింద క్లాజ్ రియాక్షన్ ద్వారా వర్గీకరించబడుతుంది, కాబట్టి దీనిని సబ్ డ్యూ పాయింట్ సల్ఫర్ రికవరీ ప్రాసెస్ అని కూడా పిలుస్తారు. క్లాజ్ రియాక్షన్ అనేది బలమైన ఎక్సోథర్మిక్ రియాక్షన్ ప్రక్రియ. అందువల్ల, తక్కువ ఉష్ణోగ్రత సమతుల్యతను సల్ఫర్ ఉత్పత్తి దిశకు మార్చడానికి అనుకూలంగా ఉంటుంది, ఇది సల్ఫర్ రికవరీని మెరుగుపరుస్తుంది. క్లాజ్ రియాక్షన్ మరియు యూనిట్ మధ్య సంబంధం ప్రకారం, తక్కువ ఉష్ణోగ్రత క్లాజ్ ప్రక్రియను స్వతంత్ర తక్కువ ఉష్ణోగ్రత క్లాజ్ ప్రక్రియ మరియు మిశ్రమ తక్కువ ఉష్ణోగ్రత క్లాజ్ ప్రక్రియగా విభజించవచ్చు.

4. ద్రవ దశ ప్రత్యక్ష ఆక్సీకరణ ప్రక్రియ
లిక్విడ్ ఫేజ్ డైరెక్ట్ ఆక్సీకరణ ప్రక్రియ అనేది H2S ను నేరుగా ఎలిమెంటల్ సల్ఫర్‌గా ఆక్సీకరణం చేసే ఒక రకమైన ప్రక్రియ సాంకేతికత. ఈ ప్రక్రియ యొక్క సూత్రం ఏమిటంటే, టెయిల్ గ్యాస్‌లోని H2S ను డీసల్ఫరైజేషన్ ద్రావణంతో గ్రహించి, ఆపై దానిని ఆక్సీకరణం చేసి ఎలిమెంటల్ సల్ఫర్‌ను ఉత్పత్తి చేయడం.

సాంకేతిక పారామితులు

1 SO2 ≤ 400mg/Nm3 (పొడి ఆధారం, 3vol% O2)
2 వార్షిక ఉత్పత్తి సమయం 8000 గంటలు
3 ఆపరేటింగ్ ఫ్లెక్సిబిలిటీ 50%~120%