नैसर्गिक वायू कारखान्यांसाठी उच्च दर्जाचे चीन टेल गॅस ट्रीटमेंट - टेल गॅस ट्रीटमेंट स्किड – रोंगटेंग

वर्णन

नैसर्गिक वायू टेल गॅस ट्रीटमेंट स्किडचा वापर प्रामुख्याने सल्फर रिकव्हरी डिव्हाइसच्या टेल गॅस, तसेच द्रव सल्फर पूलच्या कचरा वायू आणि सल्फर रिकव्हरी डिव्हाइसच्या निर्जलीकरण डिव्हाइसच्या टीईजी कचरा वायूशी व्यवहार करण्यासाठी केला जातो.
स्किडची रचना आणि प्रक्रिया क्षमता सल्फर रिकव्हरी डिव्हाइस आणि डिहायड्रेशन डिव्हाइसशी जुळवली जाते.
नैसर्गिक वायू टेल गॅस ट्रीटमेंट स्किड चार श्रेणींमध्ये विभागले जाऊ शकते

१. घट आणि शोषण प्रक्रिया
रिडक्शन आणि शोषण प्रक्रियेचे तत्व असे आहे की टेल गॅस हायड्रोजनेटेड केला जातो, टेल गॅसमधील सल्फरयुक्त घटक H2S पर्यंत कमी केले जातात, निर्माण होणारा H2S अमाइन पद्धतीने निवडकपणे शोषला जातो आणि शेवटी पुनरुत्पादन किंवा वायू क्लॉज युनिटमध्ये परिसंचरण अभिक्रियेसाठी प्रवेश करण्यासाठी काढला जातो. हायड्रोजनेशन प्रक्रियेमध्ये उच्च गुंतवणूक आणि उच्च ऑपरेशन खर्च असतो, परंतु उच्च पर्यावरण संरक्षण आवश्यकता असलेल्या देशांमध्ये आणि प्रदेशांमध्ये ते मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाते कारण ते 99.8% पेक्षा जास्त सारख्या उच्च सल्फर उत्पन्न मिळवू शकते.

२ ऑक्सिडेशन शोषण प्रक्रिया
ऑक्सिडेशन शोषण पद्धत ही अशी पद्धत आहे जी प्रथम टेल गॅसमधील सल्फाइडचे SO2 मध्ये ऑक्सिडीकरण करते, नंतर द्रावणासह (किंवा द्रावकासह) SO2 शोषून घेते आणि शेवटी ते सल्फेट, सल्फाइड आणि SO2 च्या स्वरूपात पुनर्प्राप्त करते.
या प्रकारच्या अनेक पद्धती आहेत, त्यापैकी बहुतेक पद्धती फ्लू गॅस डिसल्फरायझेशन किंवा स्मेल्टर आणि सल्फ्यूरिक अॅसिड प्लांटमधून टेल गॅसच्या उपचारांसाठी वापरल्या जातात आणि वेलमन लॉर्ड पद्धत क्लॉज टेल गॅस उपचारांसाठी वापरली जाते.

३. कमी तापमानाचा क्लॉज प्रक्रिया
कमी तापमानाच्या क्लॉज तंत्रज्ञानामध्ये सल्फर दवबिंदूच्या खाली क्लॉज अभिक्रिया असते, म्हणून तिला सब ड्यू पॉइंट सल्फर रिकव्हरी प्रक्रिया असेही म्हणतात. क्लॉज अभिक्रिया ही एक मजबूत एक्झोथर्मिक अभिक्रिया प्रक्रिया आहे. म्हणून, कमी तापमानामुळे समतोल सल्फर निर्मितीच्या दिशेने हलतो, ज्यामुळे सल्फर पुनर्प्राप्ती सुधारू शकते. क्लॉज अभिक्रिया आणि युनिटमधील संबंधांनुसार, कमी तापमानाच्या क्लॉज प्रक्रिया स्वतंत्र कमी तापमानाच्या क्लॉज प्रक्रिया आणि एकत्रित कमी तापमानाच्या क्लॉज प्रक्रियेत विभागली जाऊ शकते.

४. द्रव टप्प्यातील थेट ऑक्सिडेशन प्रक्रिया
लिक्विड फेज डायरेक्ट ऑक्सिडेशन प्रक्रिया ही एक प्रकारची प्रक्रिया तंत्रज्ञान आहे जी H2S ला थेट एलिमेंटल सल्फरमध्ये ऑक्सिडाइझ करते. या प्रक्रियेचे तत्व म्हणजे डिसल्फरायझेशन द्रावणासह टेल गॅसमध्ये H2S शोषून घेणे आणि नंतर एलिमेंटल सल्फर तयार करण्यासाठी त्याचे ऑक्सिडाइझेशन करणे.

तांत्रिक बाबी

1 SO2 ≤ 400mg/Nm3 (कोरडा आधार, 3vol% O2)
२ वार्षिक उत्पादन वेळ ८००० तास
३ ऑपरेटिंग लवचिकता ५०%~१२०%