वर्णन
एकात्मिक लहान आकाराचा एलएनजी प्लांट
हे लहान गॅस साठे, शेल गॅस, फ्लेअर गॅस, मिथेन, बायोगॅस आणि तुरळक दुर्गम नैसर्गिक वायू विहिरींच्या वापरासाठी योग्य आहे. यासाठी उच्च क्षमतेच्या स्किड माउंटेड प्रकारच्या नैसर्गिक वायू द्रवीकरण उपकरणाची आवश्यकता असते. याचे फायदे म्हणजे कमी गुंतवणूक, कमी खर्च, सुलभ स्थापना, सुलभ हस्तांतरण, कमी जागेची आवश्यकता आणि खर्चाची जलद वसुली.
मुख्य उपकरणे:
कच्चा माल गॅस कंप्रेसर, पूर्व-प्रक्रिया प्रणाली, रेफ्रिजरंट कंप्रेसर, द्रवीकृत कोल्ड बॉक्स.
लागू होणारा गॅस स्रोत:
अपारंपरिक वायू जसे की नैसर्गिक वायू, कोलबेड मिथेन, शेल गॅस, फ्लेअर गॅस, मिथेन, बायोगॅस, इत्यादी.
तांत्रिक वैशिष्ट्ये
१. द्रवीकरणासाठी कमी ऊर्जा वापर आणि कमी ऊर्जा वापर असलेली मिश्र शीतलक प्रशीतन प्रक्रिया (एमआरसी) यांना प्राधान्य दिले जाते;
२. प्रक्रिया परिपक्व आणि विश्वासार्ह आहे, प्रक्रियेची रचना प्रगत आहे, आणि संचालन व देखभाल सोपी आहे. एका शिफ्टमध्ये फक्त ३ ऑपरेटरची आवश्यकता असते, आणि सुरू होण्याची वेळ जलद आहे, आणि सुरू झाल्यापासून उत्पादन निर्मितीपर्यंतचा वेळ ३ तासांपेक्षा कमी आहे;
३. उच्च दर्जाचे एकीकरण. हे सर्व स्किडवर बसवलेले असून, स्किड्सची संख्या कमी आहे आणि जागेची आवश्यकताही कमी आहे.
४. स्किड्समधील जोडणीसाठी स्वतंत्र यांत्रिक आणि विद्युत जोडणी तंत्रज्ञान वापरले जाते, जे स्थापनेसाठी सोयीस्कर आणि जलद आहे, जागेवर वेल्डिंग करण्याची गरज नाही, चांगली गतिशीलता आहे आणि स्थापनेचा कालावधी कमी (२०-५० दिवस) आहे. पाईप फिटिंग्जसाठी प्रगत प्रणाली संरचना, संपूर्ण कार्यक्षमता, विश्वसनीयतेला प्राधान्य आणि विश्वसनीय उत्पादने वापरली जातात.
५. रिमोट डायग्नोसिस फंक्शनमुळे, रिमोट रिअल-टाइम डेटा ट्रान्समिशनद्वारे वापरकर्त्याच्या दोषाला प्रतिसाद देण्याचा वेळ १ तासापर्यंत कमी केला जाऊ शकतो;
६. नियंत्रण केबिनचा अवलंब केला आहे. उपकरणे आणि विद्युत नियंत्रण कॅबिनेट सर्व केबिनमध्ये ठेवलेले आहेत. इलेक्ट्रॉनिक घटकांच्या वापराच्या गरजा पूर्ण करण्यासाठी केबिनमध्ये वातानुकूलक बसवलेला आहे. हे स्फोट-रोधक असून हलवायला सोपे आहे.
७. डीसीएस नियंत्रण तंत्रज्ञान आणि टीसीपी/आयपी कम्युनिकेशन प्रोटोकॉलचा अवलंब केला जातो. मोडबसच्या तुलनेत, टीसीपी/आयपी कम्युनिकेशन प्रोटोकॉलमध्ये विस्तृत उपयोग श्रेणी, लांब संप्रेषण अंतर आणि उच्च गती हे फायदे आहेत.
तांत्रिक मापदंड
| उत्पादन मॉडेल | एमबी-एलएनजी | एमबी-एलएनजी | एमबी-एलएनजी १२५० | एमबी-एलएनजी २०८४ | एमबी-एलएनजी ४१६७ |
| प्रक्रिया क्षमता | १X१०४ एनएम३/डी
| २X१०४ एनएम३/डी | प्रक्रिया क्षमता | १X१०४ एनएम३/डी
| १०X१०४ एनएम३/डी |
| डिव्हाइस ऑपरेशनची लवचिकता | ५०%-११०% | ||||
| द्रवीकृत दर | १००% | ||||
| प्रक्रिया पद्धत | मिश्रित रेफ्रिजरंट चक्र (एमआरसी) | ||||
| रेफ्रिजरेशनचा ऊर्जा वापर | ≤०.३२ किलोवॅट-तास/एनएम३ एलएनजी | ||||
| इनलेट दाब | ०.२ एमपीए.जी | ||||
| एलएनजी उत्पादन मापदंड | साठवणुकीचा दाब: ०.३ एमपीए.जी; तापमान: -१६२℃ | ||||
| स्फोट-प्रतिरोधक दर्जा | एक्सिया II CT4 | ||||
| व्यापलेले क्षेत्र | ~३४०० मीटर२ | ~४७०० मीटर२ प्रदर्शन | |||


-
६७~१३४ टीपीडी स्किड माउंटेड नैसर्गिक वायू द्रवीकरण...
-
सानुकूलित २~१०×१०४मी³ / प्रति दिन नैसर्गिक वायू द्रवीकरण...
-
१०~२०×१०४ मी³ / डी सानुकूलित एलएनजी द्रवीकरण संयंत्र
-
नैसर्गिक वायूच्या द्रवीकरणासाठी सानुकूलित एलएनजी टर्मिनल
-
१~५×१०४ एनएम३/डी मिनी एलएनजी द्रवीकरण
-
१३४~२०० टीपीडी एलएनजी द्रवीकरण संयंत्र



