Porównanie i wybór techniczny
Proces skraplania gazu ziemnego obejmuje zasadniczo wstępne oczyszczanie gazu wsadowego, skraplanie, sprężanie obiegu czynnika chłodniczego, magazynowanie produktu, załadunek oraz układy pomocnicze. Główny przebieg procesu obejmuje oczyszczanie gazu wsadowego i skraplanie gazu oczyszczonego.
Wybór procesu oczyszczania gazu ziemnego
Gaz ziemny jako gaz zasilający musi zostać dokładnie oczyszczony przed skraplaniem. Oznacza to usunięcie kwaśnego gazu, wody i zanieczyszczeń z gazu zasilającego, takich jak H.2S, CO2, H2O, Hg i węglowodorów aromatycznych, aby zapobiec ich zamarzaniu w niskich temperaturach oraz blokowaniu i korozji urządzeń i rurociągów.
A) Tabela 1-1 przedstawia standardy wstępnego oczyszczania gazu wsadowego w instalacji LNG oraz maksymalną zawartość zanieczyszczeń.
Tabela 1-1 Maksymalna dopuszczalna zawartość zanieczyszczeń w gazie zasilającym LNG
| Zanieczyszczenie | Limit treści | Podstawa |
| H2THE | ＜1ppmV | A (dopuszczalne jest przekroczenie limitu rozpuszczalności bez ograniczania produkcji) |
| WSPÓŁ2 | 50～100ppmV | B (całkowita rozpuszczalność) |
| H2S | ＜4ppmV | C (wymagania techniczne produktu) |
| Całkowita zawartość siarki | 10～50mg/Nm3 | C |
| Hg | ＜0,01 μg/Nm3 | A |
| Węglowodór aromatyczny | ≤10ppmV | A lub B |
| Całkowita zawartość węglowodorów naftenowych | ≤10ppmV | A lub B |
Dane dotyczące gazu zasilającego wskazują, że zawartość dwutlenku węgla w gazie zasilającym przekracza normę i należy go oczyścić.
Proces MDEA z ciekłą aminą jest najodpowiedniejszy pod względem zużycia energii, skali procesu oraz kosztów inwestycyjnych i eksploatacyjnych. Dlatego w tym schemacie wybrano proces MDEA z ciekłą aminą do odkwaszania gazu.
B) Wybór procesu odwodnienia
Obecność wody w gazie ziemnym często prowadzi do poważnych konsekwencji: w pewnych warunkach woda i gaz ziemny tworzą hydraty, które blokują rurociąg i wpływają na proces skraplania chłodzenia; Ponadto obecność wody powoduje również niepotrzebne zużycie energii; z powodu niskiej temperatury skraplania gazu ziemnego i obecności wody, urządzenia zostaną zamarznięte i zablokowane, dlatego należy je odwodnić.
Proces odwodnienia gazu ziemnego Generalnie obejmuje trzy kategorie: odwadnianie w niskiej temperaturze, adsorpcję stałego osuszacza i absorpcję rozpuszczalnika. Separacja zamrażająca jest stosowana głównie w celu uniknięcia hydratacji, gdy temperatura gazu ziemnego jest niska. Jednakże dopuszczalna niska temperatura jest ograniczona i nie spełnia wymagań skraplania gazu ziemnego. Absorpcja rozpuszczalnika zazwyczaj obejmuje stężony kwas (zwykle kwas organiczny, taki jak stężony kwas fosforowy), glikol (powszechnie stosowany glikol trietylenowy) itp., ale metody te charakteryzują się niską głębokością odwadniania i nie mogą być stosowane w jednostkach kriogenicznych. Powszechnymi metodami odwadniania stałego osuszacza są metoda z żelem krzemionkowym, metoda sita molekularnego lub kombinacja obu metod.
W przypadku tego typu sytuacji należy zastosować metodę adsorpcji stałej. skraplanie gazu ziemnego i odwodnieniePonieważ sito molekularne ma zalety wysokiej selektywności adsorpcji, wysokich właściwości adsorpcyjnych przy niskim ciśnieniu parcjalnym pary wodnej i dalszego usuwania resztkowego kwaśnego gazu, w tym rozwiązaniu jako adsorbent odwadniający zastosowano sito molekularne 4A.
C) Wybór procesu usuwania rtęci
Obecnie istnieją dwa główne procesy usuwania rtęci: metoda adsorpcji na sicie molekularnym HGSIV firmy UOP w Stanach Zjednoczonych oraz węgiel aktywny impregnowany siarką, który powoduje reakcję rtęci z siarką, generując siarczek rtęci i adsorbując go na węglu aktywnym. Pierwsza metoda jest kosztowna i nadaje się do zastosowań o wysokiej zawartości rtęci; druga charakteryzuje się niskimi kosztami operacyjnymi i nadaje się do zastosowań o niskiej zawartości rtęci.
Z jednej strony, koszty eksploatacji sita molekularnego HGSIV są bardzo wysokie; z drugiej strony, zawartość rtęci w gazie zasilającym urządzenie jest stosunkowo niska. Dlatego firma ma udane doświadczenie w stosowaniu węgla aktywnego impregnowanego siarką do usuwania rtęci.
Skontaktuj się z nami:
Sichuan Hengzhong Automation Equipment Co., Ltd.
www.rtgastreat.com
E-mail: sales01@rtgastreat.com
Telefon/WhatsApp: +86 138 8076 0589
Adres: Nr 8, Sekcja 2 Tengfei Road, Podokręg Shigao,
Nowy obszar Tianfu, miasto Meishan, Syczuan, Chiny 620564
Nr 8, Sekcja 2 Tengfei Road, Podokręg Shigao,
Czas publikacji: 26 grudnia 2022 r.