Vysokokvalitná čínska továreň na viacfázovú prepravu ropy a plynu - veľký závod na skvapalňovanie LNG s kapacitou 140 TPD – Rongteng

Konštrukčné parametre

Kapacita spracovania: 20×10⁴Nm³/deň

Vstupný plyn CO₂bod návrhu: 3 %

Prevádzkový tlak absorpčnej veže je 5,0 MPaG.

Prevádzková teplota absorpčnej veže: 40 ℃ ~ 60 ℃

Prevádzkový tlak regeneračnej veže: 0,03 MpaG ~ 0,05 Mpa.G

Prevádzková teplota regeneračnej veže: 95 ℃ ~ 120 ℃

Rekuperačný zdroj tepla, ohrev olejom na prenos tepla

CO₂obsah v dekarbonizačnom plyne ≤ 50 ppm

3.2.2.2 Jednotka na odstraňovanie a sušenie ortuti z privádzaného plynu

1) Popis procesu

Zemný plyn z jednotky na odkyslenie vstupného plynu vstupuje do adsorbéra s aktívnym uhlím impregnovaným sírou. Ortuť reaguje so sírou na aktívnom uhlí impregnovanom sírou za vzniku sulfidu ortuti, ktorý sa adsorbuje na aktívnom uhlí, čím sa dosiahne účel odstránenia ortuti. Obsah ortuti v zemnom plyne z odstraňovača ortuti je menší ako 0,01 μg/Nm.³.

Musí sa nastaviť jeden odstraňovač ortuti a aktívne uhlie impregnované sírou sa musí vymeniť podľa testovacích podmienok.

Zemný plyn po odstránení ortuti vstupuje do sušiacej jednotky. Jednotka využíva na separáciu a čistenie plynov technológiu teplotnej kolísavej adsorpcie. Technológia teplotnej kolísavej adsorpcie je založená na fyzikálnej adsorpcii molekúl plynu na vnútornom povrchu adsorbentu (porézny pevný materiál) a využíva charakteristiku, že adsorpčná kapacita adsorbentu pre plyn sa mení s rôznou teplotou a tlakom adsorpcie. Za podmienky, že adsorbent selektívne adsorbuje rôzne zložky plynu, niektoré zložky v zmesi sa adsorbujú pri nízkej teplote a vysokom tlaku a neadsorbované zložky pretekajú cez vrstvu adsorbéra. Tieto adsorbované zložky sa desorbujú pri vysokej teplote a nízkom tlaku pre ďalšiu adsorpciu pri nízkej teplote a vysokom tlaku. Na dosiahnutie kontinuálnej separácie plynov je možné použiť viacero adsorpčných veží.

Jednotka sušenia vstupného plynu a odstraňovania ťažkých uhľovodíkov je vybavená tromi adsorbérmi pre spínaciu prevádzku, jedným pre adsorpciu, jedným pre studené fúkanie a jedným pre regeneráciu ohrevom.

Privádzaný plyn z demerkuračnej veže vstupuje do hornej časti adsorbéra, odstraňuje vodu adsorpciou molekulárnym sitom, vychádza zo spodnej časti adsorbéra a po dehydratácii vstupuje do jednotky na odstraňovanie ťažkých uhľovodíkov zo privádzaného plynu.

Sušiaca jednotka vstupného plynu používa malé množstvo vstupného plynu ako médium pre studené fúkanie a regeneráciu. Po opustení adsorpčnej veže sa regeneračný plyn po ochladení a oddelení vracia na vstup sušiacej veže v adsorpčnom stave.

Regeneračný plyn najprv prechádza cez ochladený adsorbér zhora nadol, potom sa regeneračný plyn zahreje na regeneračnú teplotu 180 ~ 260 ℃ cez regeneračný ohrievač a potom vstupuje zo spodnej časti adsorbéra, kde hydrolyzuje a adsorbuje adsorbovaný adsorbent. Regeneračný plyn vychádza z vrchnej časti sušičky a po ochladení regeneračným chladičom vstupuje do separátora regeneračného plynu. Po oddelení kvapaliny sa vracia na prednú časť adsorbéra.

Po prechode jednotkou je obsah vody v suchom zemnom plyne ≤ 1 ppm.

Hlavným vybavením je adsorpčná veža, regeneračný ohrievač, chladič regeneračného plynu a odlučovač regeneračného plynu.

2) Konštrukčné parametre

Kapacita spracovania vstupného plynu 20×10⁴Nm³/d

Prevádzkový tlak: 5,0 MPaG

Adsorpčná teplota 40 ℃

Režim regenerácie: izobarická regenerácia

Teplota regenerácie 180 ℃ ~ 260 ℃

Rekuperačný zdroj tepla, ohrev olejom na prenos tepla

H₂Obsah O v čistenom plyne ≤ 1 ppm

Obsah Hg v čistenom plyne ≤ 0,01 μg/Nm³

3.2.2.3 Jednotka filtrácie vstupného plynu

1) Popis procesu

Filtračná jednotka je vybavená filtrom, ktorý je možné prepínať podľa údajov o odporu, aby sa dosiahol účel filtrovania molekulárneho sita a prachu z aktívneho uhlia.

Po odstránení prachu sú prachové častice v privádzanom plyne menšie ako 10 μm.

Hlavným vybavením je prachový filter.

2) Konštrukčné parametre

Kapacita spracovania vstupného plynu 20×10⁴Nm³/d

Prevádzkový tlak: 5,0 MPaG

Obsah prachu v čistenom plyne ≤ 5 μm