प्राकृतिक गैस आपूर्तिकर्ताओं से उच्च गुणवत्ता वाले चीन सल्फाइड हटाने - टेल गैस उपचार स्किड - रोंगटेंग

विवरण

प्राकृतिक गैस टेल गैस उपचार स्किड का उपयोग मुख्य रूप से सल्फर रिकवरी डिवाइस की टेल गैस, साथ ही तरल सल्फर पूल की अपशिष्ट गैस और सल्फर रिकवरी डिवाइस के निर्जलीकरण डिवाइस की TEG अपशिष्ट गैस से निपटने के लिए किया जाता है।
स्किड की डिजाइन और प्रसंस्करण क्षमता सल्फर रिकवरी डिवाइस और निर्जलीकरण डिवाइस के साथ मेल खाती है।
प्राकृतिक गैस टेल गैस उपचार स्किड को चार श्रेणियों में विभाजित किया जा सकता है

1. कमी और अवशोषण प्रक्रिया
कमी और अवशोषण प्रक्रिया का सिद्धांत यह है कि टेल गैस को हाइड्रोजनीकृत किया जाता है, टेल गैस में सल्फर युक्त घटकों को H2S में कम किया जाता है, उत्पन्न H2S को अमीन विधि द्वारा चुनिंदा रूप से अवशोषित किया जाता है, और अंत में पुनर्जनन या गैस को परिसंचारी प्रतिक्रिया के लिए क्लॉस इकाई में प्रवेश करने के लिए निकाला जाता है। हाइड्रोजनीकरण प्रक्रिया में उच्च निवेश और उच्च संचालन लागत है, लेकिन इसका व्यापक रूप से उच्च पर्यावरण संरक्षण आवश्यकताओं वाले देशों और क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है क्योंकि यह काफी उच्च सल्फर उपज प्राप्त कर सकता है, जैसे कि 99.8% से अधिक।

2 ऑक्सीकरण अवशोषण प्रक्रिया
ऑक्सीकरण अवशोषण विधि एक ऐसी विधि है जो पहले टेल गैस में सल्फाइड को SO2 में ऑक्सीकृत करती है, फिर SO2 को घोल (या विलायक) के साथ अवशोषित करती है, और अंत में इसे सल्फेट, सल्फाइड और SO2 के रूप में पुनः प्राप्त करती है।
इस प्रकार की कई विधियां हैं, जिनमें से अधिकांश का उपयोग फ्लू गैस डिसल्फराइजेशन या प्रगालक और सल्फ्यूरिक एसिड संयंत्रों से टेल गैस के उपचार के लिए किया जाता है, और वेलमैन लॉर्ड विधि का उपयोग क्लॉस टेल गैस उपचार के लिए किया जाता है।

3. कम तापमान क्लॉस प्रक्रिया
निम्न तापमान क्लॉस तकनीक की विशेषता सल्फर ओस बिंदु से नीचे क्लॉस प्रतिक्रिया है, इसलिए इसे उप ओस बिंदु सल्फर रिकवरी प्रक्रिया भी कहा जाता है। क्लॉस प्रतिक्रिया एक मजबूत एक्सोथर्मिक प्रतिक्रिया प्रक्रिया है। इसलिए, कम तापमान सल्फर उत्पादन की दिशा में संतुलन के बदलाव के लिए अनुकूल है, जो सल्फर रिकवरी में सुधार कर सकता है। क्लॉस प्रतिक्रिया और इकाई के बीच संबंध के अनुसार, निम्न तापमान क्लॉस प्रक्रिया को स्वतंत्र निम्न तापमान क्लॉस प्रक्रिया और संयुक्त निम्न तापमान क्लॉस प्रक्रिया में विभाजित किया जा सकता है।

4. द्रव चरण प्रत्यक्ष ऑक्सीकरण प्रक्रिया
तरल चरण प्रत्यक्ष ऑक्सीकरण प्रक्रिया एक प्रकार की प्रक्रिया प्रौद्योगिकी है जो सीधे H2S को मौलिक सल्फर में ऑक्सीकरण करती है। इस प्रक्रिया का सिद्धांत डीसल्फराइजेशन समाधान के साथ टेल गैस में H2S को अवशोषित करना है, और फिर मौलिक सल्फर उत्पन्न करने के लिए इसे ऑक्सीकरण करना है।

तकनीकी मापदंड

1 SO2 ≤ 400mg/Nm3 (शुष्क आधार, 3vol% O2)
2 वार्षिक उत्पादन समय 8000 घंटे
3 परिचालन लचीलापन 50%~120%