고품질 중국 스키드 장착 가스 탈황 장치 공장 - 테일 가스 처리 스키드 - Rongteng

설명

천연가스 테일가스 처리 스키드는 주로 유황 회수 장치의 테일가스와 액상 유황 풀의 폐가스, 유황 회수 장치의 탈수 장치의 TEG 폐가스를 처리하는 데 사용됩니다.
스키드의 설계와 처리 용량은 유황 회수 장치와 탈수 장치에 맞춰져 있습니다.
천연가스 테일가스 처리 스키드는 4가지 카테고리로 나눌 수 있습니다.

1. 환원 및 흡수 과정
환원 및 흡수 공정의 원리는 테일 가스를 수소화하고, 테일 가스 내 황 함유 성분을 H₂S로 환원시킨 후, 생성된 H₂S를 아민 공정을 통해 선택적으로 흡수하고, 최종적으로 재생 가스 또는 가스를 추출하여 클라우스 장치로 보내 순환 반응을 진행하는 것입니다. 수소화 공정은 투자비와 운영비가 높지만, 99.8% 이상의 높은 황 수율을 달성할 수 있어 환경 보호 요건이 높은 국가 및 지역에서 널리 사용되고 있습니다.

2 산화흡수 과정
산화흡수법은 먼저 테일가스 중의 황화물을 SO2로 산화시킨 후, 용액(또는 용매)으로 SO2를 흡수하여 최종적으로 황산염, 황화물, SO2의 형태로 회수하는 방법이다.
이 유형에 속하는 방법은 여러 가지가 있으며, 대부분은 연도 가스 탈황이나 제련소 및 황산 공장에서 나오는 꼬리 가스 처리에 사용되고, 웰만-로드 방법은 클라우스 꼬리 가스 처리에 사용됩니다.

3. 저온 클라우스 공정
저온 클라우스 기술은 유황 이슬점 이하에서 클라우스 반응이 일어나는 것을 특징으로 하며, 이를 준이슬점 유황 회수 공정이라고도 합니다. 클라우스 반응은 강한 발열 반응입니다. 따라서 저온은 평형을 유황 생성 방향으로 이동시키는 데 유리하여 유황 회수율을 향상시킬 수 있습니다. 클라우스 반응과 단위 장치 간의 관계에 따라 저온 클라우스 공정은 독립 저온 클라우스 공정과 복합 저온 클라우스 공정으로 구분할 수 있습니다.

4. 액상 직접 산화 공정
액상 직접 산화 공정은 황화수소(H₂S)를 원소 황으로 직접 산화시키는 공정 기술입니다. 이 공정의 원리는 배기가스에 있는 황화수소(H₂S)를 탈황 용액에 흡착시킨 후 산화시켜 원소 황을 생성하는 것입니다.

기술적 매개변수

1 SO2 ≤ 400mg/Nm3 (건식 기준, 3vol% O2)
2 연간 생산 시간 8000시간
3 운영 유연성 50%~120%