고품질 중국산 테일가스 처리 장치 공장 - 분자체 탈수 스키드 - Rongteng

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고품질 중국산 배기가스 처리 장치 공장 - 분자체 탈수 스키드 - Rongteng 세부 정보:

설명

분자체 탈수 스키드는 천연가스 정제 또는 천연가스 컨디셔닝의 핵심 장치입니다. 분자체는 골격 구조와 균일한 미세다공성 구조를 가진 알칼리 금속 알루미노실리케이트 결정입니다. 미량 수분을 함유한 공급 가스가 실온에서 분자체 베드를 통과할 때, 미량 수분과 메르캅탄이 흡수되어 공급 가스의 수분과 메르캅탄 함량을 감소시켜 탈수 및 탈황의 목적을 달성합니다. 분자체의 흡착 과정은 일반적으로 저온 고압에서 수행되는 반면, 탈착 재생은 고온 저압에서 수행됩니다. 고온, 청정, 저압 재생 가스의 작용 하에서, 분자체 흡착제는 미세기공 내의 흡착물을 재생 가스 흐름으로 방출하여 흡착제 내 흡착물의 양이 매우 낮아질 때까지 유지합니다. 이렇게 하여 공급 가스에서 수분과 메르캅탄을 흡수하여 분자체의 재생 및 재활용 과정을 실현합니다.
분자체법은 심층 탈수법의 일종으로, 액화천연가스(LNG) 생산 시 천연가스 응축액(NGL) 회수 및 탈수 공정과 같은 저온 응축 분리 공정에 자주 사용됩니다. 또한, 분자체 탈수법은 자동차 연료용 압축천연가스 생산에도 사용됩니다.

분자체 탈수는 일반적으로 다음과 같은 경우에 적용 가능합니다.
가. 천연가스의 이슬점이 -40℃ 이하로 요구되는 경우
b. 희박 고압 천연가스의 탄화수소 이슬점 제어에 적합합니다.
c. 천연가스는 탈수와 정제 과정을 동시에 거칩니다.
d. H2S를 함유한 천연가스가 탈수되어 글리콜에 용해되면 재생가스가 배출됩니다.
e. LPG 및 NGL 탈수 시 미량 황화물(H2S, CO)을 제거해야 하는 경우
COS, CS2, 머캅탄)을 동시에 함유합니다.

흐름도

고정층 흡착기는 분자체 탈수에 사용되므로, 장치에는 최소 두 개의 흡착기가 있어야 합니다. 하나는 흡착 탈수 단계에, 다른 하나는 재생 및 냉각 단계에 설치해야 합니다. 장치 용량이 매우 큰 경우, 다중탑 공정을 구성할 수도 있습니다.
기술적 매개변수

유입 가스 상태

1 유량 290.1X104 Nm3/d
2 입구 압력 4.86-6.15 MPa
3 입구 온도 -48.98℃
출구 가스 상태
4 유량 284.4X104 Nm3/d
5 출구 압력 4.7-5.99 MPa
6 출구 온도 -50.29℃
7 H2S ≤20g/m3
8 이산화탄소 ≤3%
9 물 이슬점


제품 상세 사진:

고품질 중국산 테일가스 처리 장치 공장 - 분자체 탈수 스키드 - Rongteng 상세 사진

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관련 제품 가이드:

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    5성작성자: Leona, 몰타 - 2017.09.26 12:12
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    5성라스베거스의 Johnny 작성 - 2018.06.21 17:11