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설명
분자체 탈수 스키드는 천연가스 정화 또는 천연가스 조절에 있어 핵심적인 장치입니다. 분자체는 골격 구조와 균일한 미세 기공 구조를 가진 알칼리 금속 알루미노실리케이트 결정입니다. 미량의 수분을 함유한 공급 가스가 상온에서 분자체 층을 통과할 때, 미량의 수분과 메르캅탄이 흡착되어 공급 가스 내 수분 및 메르캅탄 함량을 감소시키고 탈수 및 탈황 효과를 얻습니다. 분자체의 흡착 공정은 일반적으로 저온 고압에서 수행되며, 탈착 재생은 고온 저압에서 수행됩니다. 고온, 청정 저압의 재생 가스 작용 하에 분자체 흡착제는 미세 기공 내 흡착물을 재생 가스 흐름으로 방출하여 흡착제 내 흡착물 양이 매우 낮은 수준에 도달할 때까지 흡착을 지속합니다. 이러한 과정을 통해 분자체는 공급 가스에서 수분과 메르캅탄을 흡착할 수 있게 되며, 분자체의 재생 및 재활용 공정이 실현됩니다.
분자체법은 심층 탈수법의 일종으로, 천연가스 응축수(NGL) 회수 및 액화천연가스(LNG) 생산 과정의 탈수 공정과 같은 저온 응축 분리 공정에 흔히 사용됩니다. 또한, 분자체 탈수법은 자동차 연료용 압축천연가스(CNG) 생산에도 사용됩니다.
분자체 탈수법은 일반적으로 다음과 같은 경우에 적용할 수 있습니다.
a. 천연가스의 이슬점이 -40℃보다 낮아야 하는 경우.
b. 이는 저압 천연가스의 탄화수소 이슬점 제어에 적합합니다.
c. 천연가스는 탈수 및 정제 과정을 동시에 거칩니다.
d. H2S를 함유한 천연가스를 탈수시키고 글리콜에 용해시키면 재생 가스가 배출됩니다.
예: LPG 및 NGL 탈수 과정에서 미량의 황화물(H2S, CO, COS, CS2, 메르캅탄)을 동시에 제거해야 하는 경우.
흐름도
분자체 탈수에는 고정층 흡착기가 사용되므로, 장치는 최소 두 개의 흡착기를 갖추어야 하며, 하나는 흡착 탈수 단계에, 다른 하나는 재생 및 냉각 단계에 위치해야 합니다. 장치의 용량이 매우 큰 경우에는 다층탑 공정을 구성할 수도 있습니다.
기술적 매개변수
유입 가스 조건
| 유입 가스 조건 | ||
| 1 | 흐름 | 290X104Nm3/디 |
| 2 | 입구 압력 | 4.86-6.15 MPa |
| 3 | 입구 온도 | -48.98℃ |
| 배출 가스 상태 | ||
| 4 | 흐름 | 284.4X104 Nm3/디 |
| 5 | 출구 압력 | 4.7-5.99 MPa |
| 6 | 출구 온도 | -50.29℃ |
| 7 | 시간2에스 | ≤20g/m3 |
| 8 | CO2 | ≤3% |
| 9 | 물 이슬점 |
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