توابع سیستم و پارامترهای طراحی شرح دهیدراسیون TEG

۱) عملکردهای سیستم

تری اتیلن گلیکول رقیق حاصل از سیستم احیا ابتدا توسط مبدل حرارتی مایع رقیق-غنی خنک شده و سپس توسط پمپ گردش TEG تحت فشار قرار می‌گیرد. سپس، پس از خنک شدن به همراه گاز طبیعی در خروجی جاذب، وارد جاذب شده و به سمت پایین جریان می‌یابد. گاز خام جدا شده توسط جداکننده در خارج از جاذب و اسکرابر داخل برج، وارد پایین جاذب شده و به سمت بالا جریان می‌یابد. هنگامی که این دو در تماس متقابل با پرکننده قرار می‌گیرند، بخار آب موجود در گاز توسط ... جذب می‌شود. محلول تری اتیلن گلیکولیک کف‌زدا در بالای جاذب قرار داده شده است تا قطرات گلیکول حمل شده توسط گاز خشک خروجی را حذف کند و در نتیجه اتلاف گلیکول را کاهش دهد. گلیکول غنی که بخار آب موجود در گاز را جذب کرده است، از پایین جاذب خارج می‌شود و پس از گرم شدن توسط کویل کندانسور رفلاکس ستون یکسوسازی برج احیا و مبدل حرارتی مایع غنی از رقیق، بیشتر گاز محلول در گلیکول غنی در مخزن تبخیر ناگهانی جدا می‌شود و سپس از طریق فیلتر مکانیکی، فیلتر کربن فعال و مبدل حرارتی مایع غنی از رقیق وارد برج احیا می‌شود. آب جذب شده در ریبویلر با فشار تقریباً عادی گرم شده و تبخیر می‌شود و سپس از بالای ستون یکسوسازی به اتمسفر تخلیه می‌شود. گلیکول رقیق احیا شده از طریق مخزن بافر، مبدل حرارتی مایع غنی از رقیق، پمپ گردش TEG و مبدل حرارتی گلیکول بازیافت می‌شود. این دستگاه فرآیند آب‌زدایی تری اتیلن گلیکول بالغ (TEG) را اتخاذ می‌کند تا عملکرد پایدار و قابل اعتماد طولانی مدت دستگاه را تضمین کند.

۲) پارامترهای طراحی

ظرفیت فرآوری گاز خام کارخانه آبگیری TEG: ۸۵ میلیون فوت مکعب در روز

فشار جذب برج جذب ۶.۰ مگاپاسکال بر گرم

دمای جذب: 54℃

فشار بازسازی: 0.01 مگاپاسکال در گرم

دمای بازسازی: ~19.5 ℃

منبع حرارت احیا کننده: مشعل القایی

محتوای H2O در گاز تصفیه شده

گردش TEG: تقریباً ۴ متر مکعب در ساعت

غلظت TEG بدون چربی (مول درصد): ۹۶.۸٪

۳) دامنه کاربرد

محدوده تنظیم بار گاز خام بین 20 تا 110 درصد است.

۴) شرح فرآیند

تری اتیلن گلیکول رقیق حاصل از سیستم احیا ابتدا توسط مبدل حرارتی مایع غنی از رقیق (E1303) تا دمای 75 درجه سانتیگراد خنک می‌شود، سپس توسط ... تا فشار 6.0 مگاپاسکال افزایش می‌یابد. پمپ سیرکولاسیون TEGو سپس پس از خنک شدن با گاز طبیعی در خروجی برج جذب، وارد برج جذب شده و از بالا به پایین جریان می‌یابد. گاز خام جدا شده توسط جداکننده در خارج از برج جذب و اسکرابر داخل برج، وارد پایین برج جذب شده و به سمت بالا جریان می‌یابد. هنگامی که این دو در تماس متقابل با پکینگ قرار می‌گیرند، بخار آب موجود در گاز توسط محلول تری اتیلن گلیکول جذب می‌شود. یک کف‌زدا در بالای برج جذب تعبیه شده است تا قطرات گلیکول حمل شده توسط گاز خشک خروجی را حذف کند و در نتیجه اتلاف گلیکول را کاهش دهد. گلیکول غنی که بخار آب موجود در گاز را جذب کرده است، از پایین برج جذب خارج می‌شود و پس از گرم شدن توسط کویل کندانسور رفلاکس ستون تقطیر برج احیا و مبدل حرارتی مایع غنی از رقیق، بیشتر گاز محلول در گلیکول غنی در مخزن تبخیر ناگهانی جدا می‌شود و سپس از طریق یک فیلتر مکانیکی، یک فیلتر کربن فعال و یک مبدل حرارتی مایع غنی از رقیق وارد برج احیا می‌شود و در ریبویلر با فشار تقریباً عادی گرم می‌شود تا آب جذب شده تبخیر شود و از بالای ستون تقطیر به جو تخلیه می‌شود. گلیکول رقیق احیا شده از طریق یک مخزن بافر، یک مبدل حرارتی مایع غنی از رقیق، یک پمپ گردش TEG و یک مبدل حرارتی گلیکول بازیافت می‌شود.

تماس:

شرکت تجهیزات اتوماسیون سیچوان رونگتنگ

تلفن/واتس‌اپ/وی‌چت: +۸۶ ۱۷۷ ۸۱۱۷ ۴۴۲۱

وب‌سایت: www.rtgastreat.com ایمیل: info@rtgastreat.com

آدرس: شماره ۸، بخش ۲ جاده تنگفی، بخش شیگائو، منطقه جدید تیانفو، شهر میشان، سیچوان، چین ۶۲۰۵۶۴